薄膜制备小型磁控溅射仪

一、产品应用：

JS-600M薄膜制备小型磁控溅射仪采用二j（DC）直流溅射原理设计，带磁控靶头，有水冷功能。设备操作简单方便，适用于扫描电子显微镜（SEM）样品制备,非导体材料实验电j的制作。

磁控溅射为冷溅射，对样品表面的升温较低，适用对温度较敏感的薄膜样品。用户可以根据自己的需要自行选择不同的真空条件，溅射电流。大尺寸的真空腔体设计，满足大样品的溅射需求。标配一片金靶，纯度为99.999%，为获得高质量的金膜提供了良好的基础。

二、JS-600M薄膜制备小型磁控溅射仪配置及技术指标：

1.本系统装配了水冷却磁控靶，靶面直径为50mm；

2.主机规格：L360mm*W300mm*H380mm；

3.靶（上部电j）：金：直径：50mm，厚度：0.1mm；

4.真空样品室：直径：160mm，高：110mm；

5.溅射面积：Ф50mm；

6.工作真空：2×10-1—6×10-2 mbar；

7.离子电流表：0-100mA；

8.定时器：根据溅射习惯设定单次溅射时间；

9.针阀： 配有进气口，微量充气调节，可连接φ4*2.5mm软管；

10.工作室工作媒介气体：空气或氩气等多种气体；

11.溅射电压：-1600 DCV；

12.飞跃真空泵（VRD-4）：1.1L/S。

三、产品特点：

1.轻便、溅射面积大；

2.可以溅射铂、金及银等金属；

3.溅射效率高，可水冷降温；

备注：JS-600M小型磁控溅射仪可适用的靶材：金、铂、银。

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