手套箱专用离子溅射仪

　　手套箱专用离子溅射仪
GVC-2000手套箱专用磁控溅射仪（手套箱专用离子溅射仪）自动化程序控制，一键式操作，让镀膜更加高效。该设备采用触摸控制，外置泵组设计，采用平面磁控溅射靶设计，从而使试样在热效应z小的条件下得到z有效的溅射效果，常用于锂电池电j防氧化研究中。
一、手套箱专用离子溅射仪技术参数
1、输入电压：AC220V±10%，50Hz
2、工作电压：DC2400V
3、z大功率（主机与机械泵）：500W
4、工作原理：磁控溅射
5、工作环境：温度 5～40℃，湿度<60%
6、存储环境：温度-10~60℃，湿度<80%
7、真空泵：两级直联旋片式真空泵 1L/s
8、整机尺寸（长×宽×高）：424×271×255（mm）
9、重量（主机）：11 kg
10、真空腔：φ128×130mm
11、样品杯：φ90×1 / φ25×4 / φ15×6
12、工作气体：Air / Ar
13、保护功能：过流、真空双保护
14、可选靶材：金、铂、银、铜、铝、铅等常用金属
二、手套箱专用离子溅射仪主要特点
1、可用于纯氩、纯氮环境，使样品免受氧气、水蒸气或其他污染。
2、助力新型电池研究
3、提供全套解决方案及交钥匙服务。
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