四路高温真空CVD涂层设备

产品概述：

四路高温真空CVD设备由滑动式快速退火管式炉+真空系统+供气系统组成 ，z高温度可以达到1200度，j限真空可以达到10-3Pa，供气系统是流量调节可以是质子流量计，可以对多种气体进行精确的混气，然后导入到管式炉内部。 KJ-T1200-S60K-4C系列快速退火炉炉管两端安装真空法兰，真空度用分子泵可以到10-5Torr，机械泵可到10-3Torr。炉底安装一对滑轨，可用手动滑动。加热和冷却速率z大可达100°C/m。为取得z快加热，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品位置。为获得z快冷却，可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10°C/s，是低成本快速热处理的理想炉子。

适用范围：

四路高温真空CVD设备是一种特殊的高真空CVD系统，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、CVD涂层、真空退火用的理想产品。

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